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產(chǎn)品系統(tǒng)NEWS CENTER

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首頁-產(chǎn)品系統(tǒng)-納米壓印設(shè)備-

產(chǎn)品中心

PRODUCT CATEGORY
GL SR300 300mm步進(jìn)式納米壓印光刻/拼版設(shè)備

GL SR300 300mm步進(jìn)式納米壓印光刻/拼版設(shè)備是一種步進(jìn)式紫外納米壓印設(shè)備,可以在300mm尺寸基底上加工精度優(yōu)于20納米的三維結(jié)構(gòu),還可以用于將小面積納米壓印模具通過步進(jìn)式壓印拼接成大面積壓印母模具。

更新日期:2025-02-20

型號(hào):

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

GL4 R D研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備

GL4 R D研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為大學(xué)、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設(shè)計(jì),功能強(qiáng)大的多功能研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備。通過簡(jiǎn)單的夾具更換,可以實(shí)現(xiàn)旋涂壓印膠高精度納米結(jié)構(gòu)壓印和點(diǎn)膠大矢高結(jié)構(gòu)自動(dòng)找平壓印模式之間的快速切換。

更新日期:2025-02-20

型號(hào):

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備

GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為晶圓級(jí)光學(xué)加工(WLO-Wafer Level Optics)開發(fā)的全幅紫外納米壓印設(shè)備,可在200mm基底面積上平行復(fù)制生產(chǎn)聚合物光學(xué)器件。

更新日期:2025-02-20

型號(hào):

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備

GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備是天仁微納新型全幅高精度紫外納米壓印設(shè)備,標(biāo)配天仁微納CLIV(Contact Litho in Vacuum)壓印技術(shù),可實(shí)現(xiàn)200mm基底面積上高精度(優(yōu)于10nm )、高深寬比(優(yōu)于10比1 )納米結(jié)構(gòu)復(fù)制量產(chǎn)。

更新日期:2025-02-20

型號(hào):

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

GL300 Cluster納米壓印光刻生產(chǎn)線

GL300 Cluster全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線是模塊化的全自動(dòng)納米壓印生產(chǎn)線,集成了從納米壓印基底清洗、涂膠、烘烤、冷卻直至納米壓印全套工藝步驟。標(biāo)配天仁微納CLIV(Contact Litho in Vacuum)壓印技術(shù),可實(shí)現(xiàn)200/300mm基底面積上全自動(dòng)高精度(優(yōu)于10nm )、高深寬比(優(yōu)于10比1 )納米結(jié)構(gòu)復(fù)制量產(chǎn)。

更新日期:2025-02-20

型號(hào):

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

UniPrinter研發(fā)型Desktop納米壓印光刻設(shè)備

UniPrinter研發(fā)型Desktop納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為大學(xué)、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設(shè)計(jì),操作簡(jiǎn)單、功能強(qiáng)大的臺(tái)面型納米壓印光刻設(shè)備。可實(shí)現(xiàn)4英寸以下基底面積上高精度(優(yōu)于10nm * )、高深寬比(優(yōu)于10比1 * )納米結(jié)構(gòu)壓印,適合用作紫外納米壓印光刻工藝開發(fā),器件原型快速驗(yàn)證,納米壓印材料測(cè)試等研發(fā)。

更新日期:2025-02-20

型號(hào):

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備

GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備產(chǎn)能可大于40片每小時(shí),適合DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)(包括斜齒光柵)、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應(yīng)用領(lǐng)域的量產(chǎn)。

更新日期:2025-02-20

型號(hào):

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

GL300 MLA全自動(dòng)紫外納米壓印光刻設(shè)備

GL300 MLA全自動(dòng)紫外納米壓印光刻設(shè)備適用于DOE、勻光片(Diffuser)、微透鏡陣列、菲涅爾透鏡等產(chǎn)品的研發(fā)和量產(chǎn)。

更新日期:2025-02-20

型號(hào):

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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